专利名称：自动确定多个X射线源的X射线辐射的谱分布专利类型：发明专利
发明人：T.奥尔门丁格,T.弗洛尔,B.施密特申请号：CN201380042474.6申请日：20130911公开号：CN104519800A公开日：20150415
摘要：本发明涉及一种用于自动确定计算机断层成像系统(10)的多个X射线源(100，100)的X射线辐射(R，R)的谱分布的方法。在此首先确定X射线源(100，100)的起始控制参数(A,U)，其确定X射线辐射的剂量和谱分布。然后基于X射线辐射(R，R)通过检查对象(O)的预计衰减，从起始控制参数(A,U)出发，确定特定于检查对象的基本控制参数(A)。然后基于X射线辐射(R，R)通过检查对象(O)的预计衰减和基本控制参数(A)，确定第一目标控制参数(A,U)和第二目标控制参数(A,U)，用于设置在随后的对检查对象(O)的多能量测量中的X射线辐射(R，R)的谱分布。此外描述了一种用于运行计算机断层成像系统(10)的方法、一种用于计算机断层成像系统(10)的为此合适的控制装置(200)以及一种具有这样的控制装置(200)的计算机断层成像系统(10)。
申请人：西门子公司
地址：德国慕尼黑
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：谢强
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