（12）发明专利说明书
（21）申请号 CN201510751720.6 （22）申请日 2015.11.06 （71）申请人 中国科学技术大学
地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号
（10）申请公布号 CN105334560B
（43）申请公布日 2017.12.22
（72）发明人 曾思为;吴丽翔;邱克强;刘正坤;付绍军 （74）专利代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 杨学明
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
一种旋转刻蚀角度来刻蚀光栅槽型的方法
（57）摘要
本发明公开了一种旋转刻蚀角度来刻
蚀光栅槽型的方法，其包括：加载设计光栅槽型参数，包括槽型宽度，槽型深度和槽型形状；初始化离子束刻蚀机参数，包括刻蚀速率，刻蚀比等；初始化光栅参数，包括光栅线密度、光栅初始胶厚、光栅占空比等；分割预设槽型，确定刻蚀角度个数；确定刻蚀角；确定刻蚀时间；优化刻蚀参数，判断刻蚀结果的归一化均方根偏差是否达到预设要求；未达到预设要求则增大刻蚀角度个数直到刻蚀结果的归一化均方根偏差满足实际
需求；达到预设要求则按照计算参数进行加工。采用本发明公开的方法，可以较快获得设计槽型的最优化加工参数。 法律状态
法律状态公告日
2016-02-17 2016-02-17 2016-03-16 2016-03-16 2017-12-22
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
法律状态
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
权利要求说明书
一种旋转刻蚀角度来刻蚀光栅槽型的方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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