专利名称：有机发光器件的制造方法专利类型：发明专利
发明人：伏见正弘,玉木顺也,大塚学,山崎拓郎申请号：CN201310049948.1申请日：20130208公开号：CN103247763A公开日：20130814
摘要：本发明提供了一种能够抑制由脱模层的残余引起的图案化缺陷的有机发光器件的制造方法，所述方法包括：第一有机化合物层形成步骤；第一保护层形成步骤；第二保护层形成步骤；第二保护层处理步骤；第一保护层处理步骤；第一有机化合物层处理步骤；第二有机化合物层形成步骤；以及剥离步骤，其中，还在第二区中形成在第二保护层处理步骤中获得的第二保护层的图案。
申请人：佳能株式会社
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：李晓芳
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