专利名称：基板的处理装置以及处理方法专利类型：发明专利
发明人：末吉秀树,矶明典,丰岛范夫,广濑治道,高木慎一郎申请号：CN200510068565.4申请日：20050329公开号：CN1676231A公开日：20051005
摘要：本发明提供了一种基板的处理装置，可以使腔内的气体相对该腔的宽度方向和长度方向均匀地排出。该装置具有装置主体(1)、传送辊(17)、主排气通道(6)以及多个分支排气通道(8)，其中装置主体(1)形成用处理液进行处理的腔(5a，5c)，传送辊(17)沿着上述腔内的预定方向传送基板，主排气通道(6)位于基板的上方，沿基板的传送方向设置在与基板传送方向相交叉的上述腔的宽度方向的中央部分上，分支排气通道(8)的一端连通上述主排气通道，另一端位于腔宽度方向的端部以形成抽吸腔内气体的抽气口(9)，并且分支排气通道(8)以主排气通道为中心在上述腔的宽度方向上对称地设置。
申请人：芝浦机械电子株式会社
地址：日本神奈川县
国籍：JP
代理机构：永新专利商标代理有限公司
代理人：黄剑锋
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