专利名称：由含二硫键材料制备官能化基底的方法和系统专利类型：发明专利
发明人：J·A·斯皮瓦萨克,R·皮尔逊,K·W·理查兹,K·D·齐格里诺申请号：CN201280053382.3申请日：20120831公开号：CN103906799A公开日：20140702
摘要：本发明提供的实施方式涉及用于生成定制的官能化基底的方法和系统。特别地，本发明提供的实施方式通过引入二硫键断裂材料来改变含二硫键的原料，从而生成能够用于各种应用和各种化学和其他反应、过程和方法的定制的官能化基底。
申请人：阿斯彭研究公司
地址：美国明尼苏达州
国籍：US
代理机构：上海一平知识产权代理有限公司
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