专利名称：厚膜电阻元件专利类型：实用新型专利发明人：曾冠闵,卢契佑申请号：CN202021065550.9申请日：20200611公开号：CN212084767U公开日：20201204
摘要：本实用新型提供一种厚膜电阻元件，利用玻璃层、导体层及电镀层的设置及包覆以防止水汽及硫气渗入至电阻元件与电阻层或电极反应，同时，通过大面积的导体层设置，可增加电阻元件的散热面积以维持良好电气功能。
申请人：光颉科技股份有限公司
地址：中国台湾新竹县
国籍：CN
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
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