专利名称：等离子体处理装置及等离子体处理方法专利类型：发明专利
发明人：周虎,刘身健,谢小兵,严利均申请号：CN201511003672.9申请日：20151229公开号：CN106937472A公开日：20170707
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置及方法，用以改善等离子体分布的均匀性，其中，所述装置包括：反应腔；位于反应腔内的承片台，用于放置待处理基底；呈同心分布的若干电感耦合线圈，用于将反应腔内的气体等离子体化，包括第一、第二电感耦合线圈；射频功率源；功率分配器，连接在射频功率源与所述若干电感耦合线圈之间，用于将射频功率源的功率分配给各个电感耦合线圈，所述功率分配器至少具有两种工作状态——第一状态与第二状态，第一电感耦合线圈在第一状态的功率小于其在第二状态的功率，第二电感耦合线圈在第一状态的功率大于其在第二状态的功率；控制器，与功率分配器连接，用于对功率分配器各工作状态之间的切换进行控制。
申请人：中微半导体设备(上海)有限公司
地址：201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
国籍：CN
代理机构：上海信好专利代理事务所(普通合伙)
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