专利名称：等离子体处理装置及等离子体处理方法专利类型：发明专利
发明人：橘内浩之,田中润一,山本秀之申请号：CN03106734.4申请日：20030227公开号：CN1525538A公开日：20040901
摘要：提供一种等离子体处理装置及方法：根据装置状态的变化监视加工结果的偏差，同时能够在装置状态变化的情况下，检测出恢复状态，并判断可否进行处理。该装置具有控制部件(10)和对晶片(2)实施等离子体处理的处理室(1)，其中：处理室(1)具有检测处理室内的处理状态和输出多个输出信号的等离子体状态检测装置(8、9)；控制部件(10)存储以前晶片处理结果信息、处理该以前的晶片时的等离子体状态检测数据及两者关联的关系式的数据库(13)，根据由等离子体状态检测装置得出的处理室状态检测结果和上述关系式计算出处理结果的预测值的运算部件(11)，根据计算出来的处理结果的预测值对处理室状态进行评估的监视部件(12)；在晶片处理后，根据关系式计算出处理结果的预测值，根据该预测值监视处理室状态。
申请人：株式会社日立高新技术
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：王以平
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