专利名称：一种基于光场测量的光场高清晰成像方法专利类型：发明专利
发明人：刘欣城,马浩统,亓波,任戈,谢宗良,董理,陈丰,史建亮,
崔占刚,张美丽
申请号：CN201710148060.1申请日：20170313公开号：CN106803892A公开日：20170606
摘要：本发明公开了一种基于光场测量的光场高清晰成像方法，首先，计算出光场相机子孔径图像的位移，再平移子孔径图像对此位移进行补偿，通过恢复子孔径图像的对称性实现对大气湍流等像差的校正，最后再对对称的子孔径图像进行数字重聚焦实现高清晰成像，从而提高光场相机在受到大气湍流等像差影响时的成像分辨率。本发明是通过对光场相机自身记录的光线信息进行处理，最终达到高清晰成像的目的，没有添加其它的硬件设备，理论上可以克服所有破坏子孔径图像对称性的像差的影响。本发明简单易行，成本低，具有较广泛的适用范围。
申请人：中国科学院光电技术研究所
地址：610209 四川省成都市双流350信箱
国籍：CN
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