（12）发明专利说明书
（21）申请号 CN201010216555.1 （22）申请日 2010.06.30
（71）申请人 上海微电子装备有限公司
地址 201203 上海市张东路1525号
（10）申请公布号 CN102314074B
（43）申请公布日 2013.04.10
（72）发明人 江传亮;杨志勇
（74）专利代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 屈蘅
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
掩模版和掩模版制作方法
（57）摘要
一种掩模版和一种掩模版制作方法，
其中，所述掩模版包括：基底；位于所述基底一侧的具有不同厚度的多个掩模部件，所述掩模部件表面具有掩模标记，所述掩模标记设置于所述掩模部件在曝光过程中光线出射一侧的表面；覆盖于所述基底的具有多种透光率的滤光膜。本发明通过使每一个包含掩模标记的掩模部件对应于多种透光率，从而在单次曝光时，能够获得对应于不同物距、不同光强的多个掩模标记的像图案，减少了反复曝光的次数，提高了生产效率。
法律状态
法律状态公告日
2012-01-11 2012-01-11 2012-03-07 2012-03-07 2013-04-10 2013-04-10 2017-08-22
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
法律状态
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
权利要求说明书
掩模版和掩模版制作方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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